2° tentativo di miglioramento della famiglia con rotazione sinusoidale (PUNTO DI REAZIONE)

Dopo il tentativo fallimentare di applicare la variazione sinusoidale alla famiglia basata su linea, sono tornato sui componenti adattativi con l'obiettivo di applicare lo stesso principio con il quale avevo tentato di sfruttare la distanza dal punto di applicazione come unico parametro che determinava la variazione sinusoidale della mia famiglia. In questo tentativo cerco di fare in modo che il punto di applicazione possa essere spostato per modificare l'esito complessivo della rotazione sinusoidale, lo chiamo punto di reazione.

Ho per prima cosa impostato i 5 punti adattativi di cui avevo bisogno: il punto 1 sarà il punto di reazione.

Ho quindi creato due punti "figli" del 2° e del 3° selezionando prima il piano sul quale dovevano insistere e gli ho dato un parametro di istanza di offset uguale a tutti e due. In seguito ho impostato un parametro di distanza dal punto 1 al punto 2.

A questo punto ho messo in relazione la distanza del punto 1 con il parametro di offset dei due punti chiamato "H rotaz panel"

Essendo una relazione regolata da una formula sinusoidale, l'altezza dell'offset dei due punti aumenta con l'allontanarsi del punto 1 e dinimuisce con il suo avvicinarsi. Questo fenomeno è visibile nelle immagini seguenti

Unendo i punti con offset ai punti 4 e 5 ho creato il solido del pannello, al quale ho impostato un parametro di tipo relativo al suo spessore ed uno relativo al materiale di cui è composto.

In questa fase ho poi cercato di piazzare il componente direttamente all'interno di un file di progetto, utilizzando una massa d'istanza, ma purtroppo già in questa fase si è rivelato il primo limite di questa famiglia: il punto che definisce la rotazione dei pannelli è infatti planare agli altri punti adattativi. Questo vuol dire che io posso anche piazzare la famiglia all'interno della massa ma modificando il posizionamento del punto 1 in un assetto ortogonale rispetto al piano della massa il comportamento della rotazione sarà anomalo. Nelle immagini seguenti, per meglio spiegarmi, ho inserito due esempi di posizionamento della massa rispetto alla riga sulla quale impostare il punto 1: nel primo esempio la riga è perpendicolare alla massa (comportamento anomalo della famiglia) mentre nel secondo è planare ma una volta fatta ripetere la famiglia presenta un comportamento sempre uguale, senza variazioni.

Ho deciso di rimediare importando la famiglia di pannello in una famiglia di massa concettuale, in modo da poter lavorare su un piano orizzontale per far avviare la variazione sinusoidale e poi piazzare la massa concettuale all'interno di un progetto sfruttando il comando "set on work plane", quindi su un piano verticale a mia scelta.

Una volta importata la famiglia su una massa orizzontale ho sperimentato come variavano le rotazioni se spostavo il punto 1: i risultati sono interessanti ma decisamente non architettonici!

Andando a variare il parametro di tipo dell'angolo e dividendo per un numero il risultato della formula il difetto dimensionale andava affievolendosi. La modifica dei parametri è avvenuta in questo modo, considerate il parametro "angle" e "spessore panel" come parametri di tipo, mentre gli altri sono di istanza. Ho inoltre inserito una condizione in modo che il valore rotazionale fosse sempre positivo immettendo il valore assoluto nel caso la funzione andasse verso valori negativi.

Dopo aver modificato questi valori i pannelli assumono una forma decente, il problema è che non sono tutti planari, cosa dovuta secondo me alla relazione che il secondo punto con offset ha con la distanza del punto 1 con il punto 2. Inoltre non posso posizionare il punto in ogni direzione perchè quando la funzione assume precisamente il valore zero, Revit non rappresenta più il pannello, un problema che mi si era presentato anche al secondo post sulla Camera Obscura.

Purtroppo i pannelli devono necessariamente essere piani, quindi devo trovare un modo per risolvere questo problema. Penso che nel prossimo post proverò a creare una famiglia che sfrutta la distanza dal punto di applicazione in modo ancora diverso, senza affidarmi più al singolo punto di reazione.